抛光(guāng)機操作(zuò)的關鍵是要設法得(de)到大(dà)的抛光(guāng)速率，以便盡快(kuài)除去(qù)磨光(guāng)時産生(shēng)的損傷層。同時也要使抛光(guāng)損傷層不會影(yǐng)響觀察到的組織。前者要求使用較粗的磨料，有較大(dà)的抛光(guāng)速率來去(qù)除磨光(guāng)的損傷層，但(dàn)抛光(guāng)損傷層也較深；後者要求使用細的材料，使抛光(guāng)損傷層較淺，但(dàn)抛光(guāng)速率低。

解決這個矛盾的的辦法就(jiù)是把抛光(guāng)分(fēn)爲兩個階段進行。粗抛目的是去(qù)除磨光(guāng)損傷層，這一階段應具有大(dà)的抛光(guāng)速率，粗抛形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應當盡可(kě)能小；其次是精抛(或稱終抛)，其目的是去(qù)除粗抛産生(shēng)的表層損傷，使抛光(guāng)損傷減到小。抛光(guāng)機抛光(guāng)時，試樣磨面與抛光(guāng)盤應平行并均勻地輕壓在抛光(guāng)盤上，注意防試樣飛出和因壓力太大(dà)而産生(shēng)新磨痕。同時還應使試樣自(zì)轉并沿轉盤半徑方向來回移動，以避免抛光(guāng)織物局部磨損太快(kuài)在抛光(guāng)過程中要不斷添加微粉懸浮液，使抛光(guāng)織物保持一定濕度。濕度太大(dà)會減弱抛光(guāng)的磨痕作(zuò)用，使試樣中硬相(xiàng)呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相(xiàng)産生(shēng)“曳尾”現象；濕度太小時，由于摩擦生(shēng)熱會使試樣升溫，潤滑作(zuò)用減小，磨面失去(qù)光(guāng)澤，甚至出現黑(hēi)斑，輕合金則會抛傷表面。爲了達粗抛的目的，要求轉盤轉速較低，不要過600r/min；抛光(guāng)時間應當比去(qù)掉劃痕所需的時間長些，因爲還要去(qù)掉變形層。粗抛後磨面光(guāng)滑，但(dàn)黯淡無光(guāng)，在顯微鏡下觀察有均勻細緻的磨痕，有待精抛消除。